据海外媒体报道，市场传出中国已启动自主研发的浸润式深紫外（duv）光刻机量产进程，此举令投资者对荷兰阿斯麦（asml）在华业务的中长期增长潜力产生疑虑。受该消息冲击，asml股价于27日单日下挫超8%，并拖累全球半导体设备板块集体走弱。
报道指出，一家未披露名称、具有中国国有资本背景的企业已正式开展DUV光刻设备的批量制造，预计今年内交付5台整机，明年产能将扩大至20台。尽管当前国产DUV设备在技术指标与运行稳定性上仍与国际领先水平存在差距，尚处于验证与优化阶段，但其产业化进展若持续提速，或将逐步影响ASML在中国市场的主导地位。鉴于美国持续限制中国进口极紫外（EUV）光刻系统，DUV设备已成为国内晶圆厂现阶段可获取的最高端光刻解决方案。随着美方正酝酿进一步收紧对华DUV设备出口及售后技术支持政策，中国加快光刻装备自主化进程，有望增强本土供应链韧性与替代能力。与此同时，国产EUV光刻机的研发工作也在推进中，但目前仍停留在原型样机研制阶段。
消息扩散后，半导体设备类股普遍承压。除ASML外，荷兰ASM International与BE Semiconductor当日跌幅分别达7.1%和9.7%；美国应用材料（Applied Materials）、泛林集团（Lam Research）及科磊（KLA）等头部设备厂商股价亦显著回落，费城半导体指数单日下挫逾2%。
