消息指出三星電子測試 TEL 公司 Acrevia GCB 設備以改進 EUV 微影工藝

本站 9 月 3 日消息，根據韓媒 The Elec 昨日報道，三星正對 Tokyo Electron (TEL) 的 Acrevia  GCB 氣體團簇光束（本站註：Gas C​​luster Beam）系統進行測試。 TEL 的 Acrevia  GCB 系統發佈於今年 7 月 8 日，可透過氣體團簇光束對 EUV 微影圖案進行局部精確整形，從而修復圖案缺陷、降低圖案粗糙度。

業內人士認為TEL 的Acrevia 系統可起到與應用材料Centura Sculpta 系統類似的作用，即直接對EUV 曝光圖案塑形，減少成本高昂的EUV 多重曝光，進而縮短光刻流程並提升整體利潤率。

此外 Acrevia 系統也可用於消除在 EUV 微影錯誤中佔約一半的隨機錯誤，提升產品良率。

TEL 相關人士表示潛在客戶確實正在進行 Acrevia 系統測試，該設備預計將首先用於邏輯代工而非記憶體領域。

先前三星電子已在 4nm 製程上對應用材料的 Centura Sculpta 進行了測試，如今又測試 TEL 的設備，旨在加强两大半導體設備供應商間的圖案塑形訂單競爭。

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