首页 >科技周边 >IT业界 >ASML 宣布推出适用于制造2纳米芯片的高 NA光刻机,英特尔已购买6台

ASML 宣布推出适用于制造2纳米芯片的高 NA光刻机,英特尔已购买6台

WBOY
WBOY转载
2023-12-19 21:51:49612浏览

根据12月19日的消息,SamMobile报道称,ASML将在未来几个月内推出用于2nm工艺节点的芯片制造设备,该设备将光学数值孔径(NA)性能从0.33提高到0.55。三星计划于2025年底开始生产2nm芯片

据报道,据称荷兰半导体设备制造商ASML计划明年产能只有10台。然而,英特尔已经预订了其中的6台。尽管如此,ASML计划在未来几年将该设备的产能提高到每年20台

消息称 ASML 明年推出用于 2nm 芯片制造的高 NA 光刻机,英特尔已采购 6 台

目前,ASML官网上列出的EUV光刻机有两款,分别是NXE:3600D和NXE:3400C。这两款光刻机都配备了0.33 NA的反射式投影光学器件和13.5nm的EUV光源,分别适用于3/5nm和5/7nm芯片的制造

消息称 ASML 明年推出用于 2nm 芯片制造的高 NA 光刻机,英特尔已采购 6 台
▲ NXE:3600D 

根据ASML发言人透露,EXE:5200是ASML的下一代高NA系统,具备更高的光刻分辨率,能够将芯片缩小到1.7的比例,并且增加密度至2.9倍

消息称 ASML 明年推出用于 2nm 芯片制造的高 NA 光刻机,英特尔已采购 6 台
▲ ASML 高 NA 系统路线图

根据之前的报道,ASML计划在2025年后开始量产第一台0.55 NA EUV光刻机,并将首批交付给英特尔

据英特尔发言人透露,该公司将成为ASML首台EXE:5200的购买者。相较于EXE:5000,EXE:5200预计将带来一些改进,如更高的生产率等

根据 Gartner 分析师 Alan Priestley 的预测,0.55 NA EUV 光刻机的价格将翻番,达到 3 亿美元(约合 21.42 亿元人民币)

以上是ASML 宣布推出适用于制造2纳米芯片的高 NA光刻机,英特尔已购买6台的详细内容。更多信息请关注PHP中文网其他相关文章!

声明:
本文转载于:ithome.com。如有侵权,请联系admin@php.cn删除