ASML 首台新 EUV 微影機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝

光刻機製造商ASML宣布首台新款EUV微影機Twinscan NXE:3800E已成功安裝完畢，此新機型將帶來更高的生產效率。根據3月13日的消息稱，ASML公司取得了這一重要進展。

▲ ASML 在X 平台上的相關動態

本站查詢發現，ASML 官網尚未上線Twinscan NXE :3800E 的資訊頁面。

除了正在研發的High-NA EUV 微影機Twinscan EXE 系列，ASML 也為其NXE 系列傳統數值孔徑EUV 微影機持續更新升級，未來目標在2025 年推出NXE:4000F機型。

上兩代NXE 系列機型3400C 和3600D 分別適合7~5、5~3 奈米節點生產，德媒ComputerBase 因此預測3800E 可望支援3~2 奈米的尖端製程 。

根據ASML 先前分享的2021 版路線圖，Twinscan NXE:3800E 系統將相較上代3600D 在對準精度（Overlay）和產能上進一步提升#，可實現195 片晶圓的每小時吞吐量，相較3600D 的160 片大幅提升近22%，並有望達到220 片的目標（對應提升37.5%）。

▲ 2021 年版 ASML 微影機路線圖。圖源 ASML，下同

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