三星計劃投資10兆韓元用於半導體設備並大量採購ASML EUV微影機

三星計劃增加進口更多ASML極紫外線（EUV）光刻設備，這是根據韓國今日電子新聞的報道

##儘管合約中的保密條款並未透露具體細節，但根據證券市場的消息，本協議將使得ASML在五年內提供總共50套設備，每台設備的單價約為2000億韓元（約11.02億元） ，總價值可達10兆韓元（約551億元人民幣）

目前尚不清楚其合約中的產品是現有EUV 光刻設備還是下一代「High NA EUV」光刻設備。不過，目前 EUV 微影設備最大的問題是產量有限。根據官方介紹，它“比衛星部件還複雜”，每年只能生產很有限的數量。據說去年是 40 台，今年 ASML 估計是 60 台。而目前需要且能購買到 EUV 微影設備的廠商有五家：三星電子、台積電、英特爾、SK 海力士和美光。其中，台積電約佔供應量的 70%，剩下四家公司爭奪剩下的 30%。

三星電子於去年6 月推出了全球首個採用全閘極（GAA）技術的3nm 代工技術，因此該公司一直在努力確保採購更多 EUV 光刻設備，目標是在明年上半年進入3nm 世代的第二代工藝，在2025 年進入2nm 工藝，在2027 年進入1.4nm 工藝。

因此，李在鎔董事長去年六月前往ASML總部，與執行長Peter Bennink討論了EUV採購問題。在去年十一月訪問韓國期間，他與Bennink進一步會談。考慮到EUV的交付週期至少需要一年，這些會議似乎取得了實際成果

實際上，半導體領域分析師也對三星電子增購 EUV 光刻設備的計劃持積極態度。

祥明大學系統半導體工程教授李鍾煥表示：「三星已經引進了數十台EUV光刻設備，據說每台設備的成本約為2000億韓元，這表明該公司有意擴大3nm晶片的量產，並計劃在未來實現2nm的生產。」

三星電子之前宣布計劃到2025年擁有100台EUV光刻機。市場估計目前三星擁有約40台EUV機器。如果這50台設備能夠如期交付，那麼到2028年，三星將能夠擁有約100台設備

荷蘭應用科學研究所（TNO）的韓國代表樸炳勳解釋道：「一般情況下，半導體工藝可以將每台機器的10%用於製程研發和測試，擁有100台機器意味著它們可以全天候用於研發。」

他還指出，「透過這樣做，我們將能夠確保有足夠的製程能力來正確使用設備”，他補充說，“ 預計這將減少製程過程中的時間和成本，並提高產量。」

“一旦我們擁有了大量的（EUV）設備，並且技術趨於穩定，我們將能夠提高產量，並在代工方面取得進展” ，工業研究所的專家研究員金陽邦（Kim Yang-pang）說。

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