ASML 財務長 Dassen 回擊質疑：High-NA EUV 光刻仍是未來最經濟選擇，相關訂單穩定增加

本站 2 月 2 日消息，ASML 財務長 Roger Dassen 最近接受了荷蘭當地媒體 Bits&Chips 的採訪。在訪談中，Dassen 回應了分析機構 SemiAnalysis 的質疑，表示 High-NA（高數值孔徑）EUV（極紫外光）光刻機仍是未來最經濟的選擇。

SemiAnalysis 先前發表文章，認為High-NA 光刻技術將使用更高的曝光劑量，從而明顯降低單位時間內的晶圓吞吐量。這就意味著，相較於沿用現有的 0.33NA EUV 光刻機並搭配多重曝光，引入 High-NA 在近期不會帶來成本優勢。

Dassen 認為，SemiAnalysis 的觀點輕視了多重曝光路線的複雜程度，英特爾10nm 過程難產的關鍵原因之一就是其DUV SAQP（本站註：Self-Aligned Quadruple Patterning ，即自對準四重曝光）技術路線過於複雜，正因此英特爾積極佈局High-NA EUV 技術，買下了第一台High-NA 光刻機。

Dassen指出，不同客戶對於引進High-NA的時間點有不同的評估，這是很自然的。不過，AMSL每季都獲得了多個新的High-NA EUV光刻機訂單。

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