2nm 이하 노드 장비 경쟁 시작, TSMC Wei Zhejia가 ASML 본사를 비밀리에 방문

5월 28일 본 사이트의 뉴스에 따르면 TSMC의 웨이저지아 CEO는 지난 5월 23일 자신이 주최한 'TSMC 2024 기술세미나'를 마치고 네덜란드로 출국해 에인트호번에 있는 ASML 본사를 방문했다. 독일 디칭엔(Ditzingen)에 위치한 산업용 레이저 전문 기업 TRUMPF를 방문해 보세요.

ASML CEO Christophe Fouquet와 TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller는 소셜 미디어를 통해 Wei 씨의 비밀 방문 행방을 공개했습니다.

CEO Fuke는 다음과 같이 말했습니다. “우리는 높은 NA(개구율) EUV 장비가 미래의 반도체 현미경 처리 기술을 어떻게 가능하게 하는지를 포함하여 Wei 씨에게 최신 기술과 신제품을 소개했습니다. ".

TSMC의 Xiaoqiang Zhang 박사가 5월 14일 암스테르담에서 열린 기술 세미나에서 다음과 같이 말한 것으로 14일 보도되었습니다. “ASML의 High-NA EUV는 너무 비싸지만 High-NA EUV의 기능은 매우 마음에 듭니다. 가격이 마음에 들지 않습니다.”

TSMC는 그 전에 기존 Low NA EUV 장비를 사용하면서, 2026년 하반기 양산 예정인 1.6nm 제품 A16 이후 High NA EUV 장비를 공정에 도입하는 것을 검토하고 있습니다.

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