ASML、DUVリソグラフィー装置の輸出承認問題に対応：一部モデルのみ規制

7 月 1 日のニュースによると、編集者の理解によれば、リソグラフィー装置のリーダーである ASML は最近、自社の DUV リソグラフィー装置の輸出承認に関する質問に回答し、関連する規制とスケジュールをさらに明確にしました。

ASML の声明によると、輸出管理規制は DUV リソグラフィー装置の一部の最新モデル、特に TWINSCAN にのみ適用されます。 NXT:2000i とその後の液浸リソグラフィー システム。 EUVリソグラフィー装置は以前から規制されており、他のタイプのリソグラフィー装置の出荷は規制されていなかった。

#ASML は、この管理規制は 9 月 1 日に正式に発効することを強調し、同社は正常な事業運営を確保するために関連部門にライセンス申請を積極的に提出しました。したがって、9 月 1 日より前に出荷された DUV リソグラフィー装置は影響を受けません。 NXT:1980Di モデルも影響を受けません。

半導体業界の上級管理者らは、共同の努力によってのみ完全に独立した産業チェーンを構築できると述べています。彼らは、この目標を達成することは不可能ではないにしても、非常に困難であると強調した。

今回、DUV露光装置の輸出承認問題に対するASMLの対応は広く注目を集めました。 ASMLが業界の安定した発展を図るためにも、関連ライセンスの取得が成功することが期待されており、業界はライセンス申請の進捗状況に注目している。

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