Maison >Périphériques technologiques >Industrie informatique >ASML annonce le lancement de machines de lithographie à haute NA adaptées à la fabrication de puces 2 nm, Intel en a acheté 6 unités
Selon les informations du 19 décembre, SamMobile a annoncé qu'ASML lancerait dans les prochains mois un équipement de fabrication de puces pour le nœud de processus 2 nm, ce qui augmenterait les performances d'ouverture numérique optique (NA) de 0,33 à 0,55. Samsung prévoit de commencer à produire des puces de 2 nm fin 2025
Selon certaines informations, le fabricant néerlandais d'équipements à semi-conducteurs ASML prévoirait d'avoir une capacité de production de seulement 10 unités l'année prochaine. Cependant, Intel en a déjà précommandé 6. Malgré cela, ASML prévoit d'augmenter la capacité de production de cet équipement à 20 unités par an dans les prochaines années
Actuellement, il existe deux machines de lithographie EUV répertoriées sur le site officiel d'ASML, à savoir NXE:3600D et NXE : 3400C. Les deux machines de lithographie sont équipées d'optiques de projection réfléchissantes de 0,33 NA et d'une source de lumière EUV de 13,5 nm, qui conviennent respectivement à la fabrication de puces de 3/5 nm et 5/7 nm
Selon un Porte-parole d'ASML, EXE:5200 est le système à haute NA de nouvelle génération d'ASML, qui a une résolution lithographique plus élevée, peut réduire la puce à un rapport de 1,7 et augmenter la densité à 2,9 fois
Selon les rapports précédents, ASML prévoit de démarrer la production en série de la première machine de lithographie EUV 0,55 NA après 2025 et de livrer le premier lot à Intel
Selon un porte-parole d'Intel, la société deviendra le premier acheteur de l'EXE d'ASML : 5200. Par rapport à EXE:5000, EXE:5200 devrait apporter certaines améliorations, telles qu'une productivité plus élevée, etc.
Selon les prévisions de l'analyste de Gartner Alan Priestley, le prix d'une machine de lithographie EUV 0,55 NA doublera pour atteindre 300 millions de dollars ( Environ 2,142 milliards de yuans)
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