光阻的作用

光阻用於將電路設計圖案轉移到晶圓，是半導體製造的關鍵材料。它的作用是將受光部分變成不溶於顯影劑，從而實現圖案轉移。根據光敏性，光阻分為正性（用於製作電路線條）和負性（用於製作電路空間）。它廣泛應用於積體電路、微電子裝置、印刷電路板和光學儀器製造等領域。

光阻的作用

#光阻是半導體製造過程中用來製作積體電路的關鍵材料。它的作用是將電路設計圖案轉移到晶圓上。

光阻的原理

光阻是對紫外光或電子束敏感的有機聚合物。當光照射到光阻上時，聚合物被交聯，變得不溶於顯影劑。未照射的部分則保持可溶狀態。

光阻的製造流程

光阻的製造流程包括以下步驟：

• 合成聚合物
• #加入光敏劑
• 將聚合物溶解於溶劑中
• 過濾和除氣
• 塗覆到晶圓上

光阻的類型

根據光阻對光的敏感性，可分為正性光阻與負性光阻：

• 正性光阻：照射後形成的聚合物變得不溶於顯影劑，用於製作電路線條。
• 負性光阻：照射後形成的聚合物變得可溶於顯影劑，用於製作電路空間。

光阻的應用

光阻廣泛應用於：

• 積體電路製造
• #微電子裝置製作
• 印刷電路板製造
• 光學儀器製造

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