困擾蘋果多年的老毛病要解決了！ iPhone新技術根治鬼影問題

國外部落客yeux1122的爆料指出，蘋果正在測試新的抗反射光學塗層技術，旨在減少鏡頭炫光和鬼影等偽影，以提升照片品質。

根據供應鏈訊息，蘋果正在考慮在iPhone相機鏡頭製造流程中引入新的原子層沉積（ALD）設備。

原子層沉積是一種基於連續使用氣相化學過程的薄膜沉積技術，透過將物質以單原子膜形式逐層鍍在基板表面的方式實現。 ALD是一種奈米技術，可以精確控制方式實現奈米級超薄薄膜沉積。

具體到相機鏡頭方面，ALD製程主要用於噴塗抗反射塗層，有助於減少攝影偽影。例如，當強光源如太陽直接照射鏡頭時，可能導致拍攝的影像出現條紋和光暈，而ALD技術可以減少這些影像失真現象。

此外，ALD應用材料還可以防止環境對相機鏡頭系統造成損害，同時不會影響感光元件有效捕捉光線的能力。

部落格文章指出，蘋果計畫將流程套用在iPhone的Pro系列機型，可能會在iPhone 16 Pro系列或明年的iPhone 17 Pro系列上看到。

編輯評論：

iPhone用戶一直對光線反射所帶來的各種炫光和鬼影問題而頭痛，蘋果研發這項新技術有望改善照片質量，減少炫光和偽影，為使用者帶來更出色的拍攝體驗。

如果成功應用於iPhone上，將進一步鞏固蘋果在智慧型手機攝影領域的領先地位。

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