SK 海力士創新的半導體CMP拋光墊技術實現了永續利用

本站12 月27 日消息，根據韓媒ETNews 報道，SK 海力士近日研發出了可重複使用的CMP 拋光墊技術，不僅可以降低成本，而且可以增強ESG（環境、社會、治理）管理。

SK 海力士表示，他們將首先在低風險製程中部署可重複使用的CMP 拋光墊，並逐步擴大其應用範圍

本站註：CMP 技術是使被拋光材料在化學和機械的共同作用下，材料表面達到所要求的平整度的一個製程。拋光液中的化學成分與材料表面進行化學反應，形成易拋光的軟化層，拋光墊和拋光液中的研磨顆粒對材料表面進行物理機械拋光將軟化層除去。

圖源：鼎龍股

在CMP製程中，拋光墊的主要作用有：

• 為了實現拋光液的均勻分佈到整個加工區域，並提供新的補充拋光液進行循環，需要進行以下操作：

• 清除由於拋光過程產生的工件表面上的殘留物，例如拋光碎屑、碎片等

• 傳遞材料時需要消除所需的機械載荷；

######################## #維持拋光過程所需的機械和化學環境是十分重要的。除了拋光墊的力學特性外，表面的結構特徵也會對拋光效率和平整度產生影響。例如微孔的形狀、孔隙率以及溝槽的形狀等，會影響拋光液的流動和分佈情況############SK海力士採用CMP拋光墊錶盤紋理重建方法，以確保拋光墊可以重複利用######韓國大約有70%的CMP拋光墊採用國外產品，並且高度依賴國外。然而，透過突破這項技術，可以促進韓國半導體產業的進一步自主發展###

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