三星預計明年下半年量產下一代 3nm / 4nm 節點技術

本站11 月3 日消息，三星電子本周向投資者透露，近期將過渡和推進光刻技術，計劃2024 年下半年向市場推出採用第二代3nm 製程技術（SF3）以及量產版4nm 製程（SF4X）的產品。

來源：三星電子

該公司一份聲明中寫道：

#我們打算在今年下半年開始批量生產第二代3奈米製程和第四代4奈米工藝，用於高性能運算，以進一步提升我們的技術競爭力

隨著移動需求的反彈和高效能運算（HPC）需求的持續成長，預計市場將出現成長趨勢

本站注：三星即將推出的SF3製程技術是對其現有SF3E生產節點的重大升級。根據目前公佈的信息，該節點僅用於製造用於加密貨幣挖礦的小型晶片

#三星聲稱，SF3 將提供更大的設計多功能性，可以在相同的單元類型中，為不同的全柵極（GAA） 電晶體提供不同的奈米片通道寬度。

雖然三星沒有直接比較 SF3 和 SF3E，但他們表示 SF3 在相同功率和複雜度下有重大改進，例如性能提高了22%。此外，在相同頻率和電晶體數量下，功耗降低了34%，邏輯面積也縮小了21%。需要注意的是，三星表示這些改進是相對於SF4（4LPP、4nm 級、低功耗）的結果

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