非光刻方案，佳能開始銷售 5nm 晶片生產設備

本站 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日發布新聞稿，開始銷售晶片生產設備 FPA-1200NZ2C，表示採用不同於複雜光刻技術的方案，可以製造 5 nm 晶片。

#Canon表示，這套生產設備的工作原理與產業領導者ASML不同。它更類似於印刷，而不是光刻。它沒有利用影像投影的原理將積體電路的微觀結構轉移到矽晶圓上

#這套裝置可以應用於最小14 平方毫米的矽晶圓，從而可以生產相當於5nm 製程的晶片。

#Canon表示會繼續改進和發展這套系統，未來有望用於生產 2nm 晶片。

本站：奈米印刷（Nanoprinted lithography）通常被認為是光學光刻的低成本替代品，SK 海力士和鎧俠等儲存晶片製造商過去曾嘗試過使用。鎧俠先前進行測試，不過潛在客戶提出投訴，認為產品缺陷率較高，最後選擇放棄。

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