日本將美光 EUV 晶圓廠補貼增加至 12.9 億美元

本站9 月30 日消息，根據《日經新聞》報道，日本經濟產業省正在將對美光廣島工廠的補貼從3.2 億美元增加到12.9 億美元（本站備註：目前約94.17 億元人民幣），以加強國內半導體供應鏈。對於日本政府來說，這筆款項是更大計劃的一部分，該計劃包括向各種晶片公司投資數十億日圓，旨在增強日本的半導體實力。

本站從報道獲悉，美光計畫到2026 年開始使用依賴於極紫外（EUV）光刻的1γ 工藝（第三代10 奈米級節點）大批量生產複雜的儲存晶片，因此該公司需要盡快獲得資金。

日本經濟產業省為期兩年的 2 兆日圓（133.85 億美元）的龐大預算明確用於與半導體投資相關的補貼。其中，台積電熊本工廠獲得高達 4,760 億日圓（31.857 億美元）的資金，鎧俠與西數的合作得到了價值 929 億日圓（6.21 美元）的補貼支持。

此次巨額資金注入半導體公司突顯了日本致力於減少對海外晶片供應商依賴並重建國內半導體產業的承諾。日本的目標是透過加強國內能力來規避與國際供應鏈中斷相關的潛在風險，以確保關鍵技術部件的平穩和強勁的內部供應

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