4月16日的消息,國外部落客yeux1122的爆料指出,蘋果正在測試新的抗反射光學塗層技術,旨在減少鏡頭炫光和鬼影等偽影,以提升照片品質。
![蘋果正在研發抗反射技術:將減少拍攝炫光等問題](https://img.php.cn/upload/article/000/000/000/172423855725304.jpg)
1. 根據供應鏈消息,蘋果正在考慮在iPhone相機鏡頭製造製程中引入新的原子層沉積(ALD)設備。
- 原子層沉積是一種基於連續使用氣相化學過程的薄膜沉積技術,透過將物質以單原子膜形式逐層鍍在基板表面的方式實現。
- ALD是一種奈米技術,可以精確控制方式實現奈米級超薄薄膜沉積。
![蘋果正在研發抗反射技術:將減少拍攝炫光等問題](https://img.php.cn/upload/article/000/000/000/172423855894173.jpg)
相機鏡頭應用
ALD 製程主要用於相機鏡頭,具體來說是噴塗抗反射塗層,以減少攝影偽影。
1. 減少影像失真
當強光源(如太陽)直接照射鏡頭時,可能導致拍攝的影像出現條紋和光暈。 ALD 技術可以減少這些影像失真現象。
2. 保護鏡頭系統
ALD 應用材料還可以防止環境對相機鏡頭系統造成損害,同時不會影響感測器有效捕捉光線的能力。
![蘋果正在研發抗反射技術:將減少拍攝炫光等問題](https://img.php.cn/upload/article/000/000/000/172423855933320.jpg)
1.
博文指出,蘋果計劃將該工藝應用於iPhone的Pro系列機型,可能會在iPhone 16 Pro系列或明年的iPhone 17 Pro系列上看到。 -
編輯點評:iPhone用戶一直對光線反射所帶來的炫光和鬼影問題頭痛,蘋果研發這項新技術有望改善照片質量,減少炫光和偽影,為用戶帶來更出色的拍攝體驗。如果成功應用於iPhone上,將進一步鞏固蘋果在智慧型手機攝影領域的領先地位。
以上是蘋果正在研發抗反射技術:將減少拍攝炫光等問題的詳細內容。更多資訊請關注PHP中文網其他相關文章!