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首頁科技週邊IT業界imec 首次成功利用 ASML High NA EUV 微影機實現邏輯、DRAM 結構圖案化

本站8 月8 日消息,比利時微電子研究中心imec 當地時間昨天宣布,在其與ASML 合作的High NA EUV 光刻實驗室首次成功利用High NA EUV 光刻機曝光了邏輯和DRAM 的圖案結構。在邏輯圖案方面,imec 成功圖案化了單次曝光隨機邏輯機構,實現了9.5nm 密集金屬線(本站註:對應19nm Pitch),將端到端間距尺寸降低至20nm 以下:

imec 首次成功利用 ASML High NA EUV 光刻机实现逻辑、DRAM 结构图案化

▲ 密集金屬線。圖源imec,下同不僅如此,imec 實現了中心間距30nm 的隨機通孔,展現了出色的圖案保真度和臨界尺寸一致性:

imec 首次成功利用 ASML High NA EUV 光刻机实现逻辑、DRAM 结构图案化

▲ 隨機通孔此外,imec透過High NA EUV 光刻機構建造了P22nm 間距的二維特徵,顯示了新一代光刻技術在二維佈線方面的潛力:

imec 首次成功利用 ASML High NA EUV 光刻机实现逻辑、DRAM 结构图案化


▲ 二維特徵而在DRAM領域,imec 成功利用單次曝光圖案化了整合SNLP(Storage Node Landing Pad)和位線外圍的DRAM 設計,展現了High NA EUV 減少曝光次數的能力:

imec 首次成功利用 ASML High NA EUV 光刻机实现逻辑、DRAM 结构图案化


▲ DRAM 設計imec 總裁兼執行長Luc Van den hove 表示:
這些結果證實了High NA EUV 光刻技術一直以來預測的分辨率能力,一次曝光即可實現20nm 以下間距的金屬層。
因此,High NA EUV 將對邏輯和記憶體技術的尺寸擴展起到關鍵作用,這正是將路線圖推向 "艾米時代" 的重要支柱之一。
這些早期演示之所以能夠實現,要歸功於 ASML-imec 聯合實驗室的建立,它使我們的合作夥伴能夠加速將 High NA 光刻技術引入製造領域。

以上是imec 首次成功利用 ASML High NA EUV 微影機實現邏輯、DRAM 結構圖案化的詳細內容。更多資訊請關注PHP中文網其他相關文章!

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