Rumah > Artikel > Peranti teknologi > CFO ASML Dassen menjawab keraguan: Litografi EUV-NA tinggi masih merupakan pilihan paling menjimatkan pada masa hadapan, dan pesanan berkaitan semakin meningkat
Menurut berita dari laman web ini pada 2 Februari, Ketua Pegawai Kewangan ASML Roger Dassen baru-baru ini menerima temu bual dengan media Belanda tempatan Bits&Chips. Dalam temu bual itu, Dassen menjawab keraguan organisasi penganalisis SemiAnalysis, dengan mengatakan bahawa mesin litografi EUV (ultraviolet melampau) Tinggi-NA (apertur berangka tinggi) masih merupakan pilihan paling menjimatkan pada masa hadapan.
. Dassen percaya bahawa
Pandangan SemiAnalysis memandang rendah kerumitan laluan pendedahan bergandaSalah satu sebab utama kesukaran proses 10nm Intel ialah DUV+SAQPnya (Nota dari tapak ini: Self-Aligned Quadruple Patterning, iaitu,. Pendedahan empat kali ganda sejajar sendiri) Laluan teknikalnya terlalu rumit, itulah sebabnya Intel secara aktif menggunakan teknologi High-NA EUV dan membeli mesin litografi High-NA yang pertama. Dassen menegaskan bahawa adalah wajar bahawa pelanggan yang berbeza mempunyai penilaian yang berbeza tentang titik masa untuk memperkenalkan High-NA. Walau bagaimanapun, AMSL telah menerima beberapa pesanan baharu untuk mesin litografi EUV High-NA setiap suku tahun.
Atas ialah kandungan terperinci CFO ASML Dassen menjawab keraguan: Litografi EUV-NA tinggi masih merupakan pilihan paling menjimatkan pada masa hadapan, dan pesanan berkaitan semakin meningkat. Untuk maklumat lanjut, sila ikut artikel berkaitan lain di laman web China PHP!