SK하이닉스의 혁신적인 반도체 CMP 연마 패드 기술로 지속 가능한 사용 가능

12월 27일 본 홈페이지 소식에 따르면 국내 언론 전자뉴스에 따르면 SK하이닉스는 최근 비용 절감은 물론 ESG(환경, 사회, 지배구조) 경영도 강화할 수 있는 재사용 가능한 CMP 연마 패드 기술을 개발했다고 한다.

SK 하이닉스는 먼저 재사용 가능한 CMP 연마 패드를 저위험 공정에 배치하고 점차적으로 적용 범위를 확대할 것이라고 밝혔습니다.

이 사이트의 참고 사항: CMP 기술은 연마된 재료에 대한 화학 물질과 기계의 공동 작용입니다. 이 과정에서, 재료의 표면이 필요한 평탄도에 도달합니다. 연마액의 화학 성분은 재료 표면과 화학적으로 반응하여 연마하기 쉬운 연화층을 형성합니다. 연마액에 포함된 연마 패드와 연마 입자는 재료 표면을 물리적, 기계적으로 연마하여 연화된 층을 제거합니다.

출처: Dinglong Shares

CMP 공정에서 연마 패드의 주요 기능은 다음과 같습니다.

• 가공 영역 전체에 연마액을 균일하게 분포시키고 새로운 보충 연마를 제공합니다. 유체 사이클을 수행하려면 다음 작업을 수행해야 합니다.

• 연마 공정으로 인해 생성된 공작물 표면의 잔여물(예: 연마 칩, 칩 등)을 제거합니다.

• 필요한 기계 장치를 제거해야 합니다.

• 연마 공정에 필요한 기계적, 화학적 환경을 유지하는 것은 매우 중요합니다. 연마 패드의 기계적 특성 외에도 표면의 구조적 특성도 연마 효율성과 평탄도에 영향을 미칩니다. 예를 들어, 미세 기공의 모양, 다공성 및 홈 모양은 연마액의 흐름과 분포에 영향을 미칩니다

SK 하이닉스는 연마 패드의 재사용이 가능하도록 CMP 연마 패드 다이얼 질감 재구성 방법을 사용합니다

한국 약 70개 CMP 연마 패드의 %는 외국 제품을 사용하며 외국 의존도가 높습니다. 그러나 이 기술을 돌파함으로써 한국 반도체 산업의 더욱 자주적인 발전을 도모할 수 있습니다

위 내용은 SK하이닉스의 혁신적인 반도체 CMP 연마 패드 기술로 지속 가능한 사용 가능의 상세 내용입니다. 자세한 내용은 PHP 중국어 웹사이트의 기타 관련 기사를 참조하세요!