인텔은 오늘 개최된 기술 혁신 서밋에서 최신 공정 기술 진보를 발표해 반도체 업계에 흥미로운 소식을 전했습니다.
인텔의 발표에 따르면 인텔은 인텔 4 공정의 대량 생산을 가속화하고 첫 번째 배치를 가속화하기 위해 모든 노력을 기울이고 있습니다. 이 프로세스의 프로세서는 새로운 Meteor Lake가 될 것입니다. Intel 4 프로세스는 극자외선 리소그래피 기술을 사용하여 프로세스의 수율과 면적 축소를 크게 향상시켜 프로세서의 높은 에너지 효율성 성능을 위한 견고한 기반을 마련합니다. 동시에 개발 중인 Intel 3 프로세스는 더 높은 밀도의 설계 라이브러리를 가져오고, 트랜지스터의 구동 전류를 높이며, 스루홀 저항을 효과적으로 줄이고, EUV 리소그래피 기술을 더욱 광범위하게 채택할 것입니다
작은 편집자에 따르면 는 Intel 20A 프로세스가 Intel의 Amy 시대 진입을 의미한다는 점을 이해하고 있습니다. 이 프로세스는 혁신적인 RibbonFET 및 PowerVia 기술을 도입할 것이며 2019년에 출시될 예정입니다. 2024년 상반기에 제조 준비가 완료될 예정이다. 또한 Intel 18A 프로세스는 2024년 하반기에 준비될 예정이며 Intel 20A 프로세스를 기반으로 하여 향상된 와트당 성능을 약속합니다. 10%로 Intel은 프로세스 노드 분야에서 선두 위치를 유지할 수 있습니다.
이 일련의 공정 기술 출시는 반도체 제조 분야에서 인텔의 지속적인 발전을 보여주며 회사가 향후 몇 년간 시장에서 경쟁력을 유지하고 증가하는 기술 수요를 충족하는 데 도움이 될 것입니다. 인텔의 기술 혁신 서밋은 업계에 흥미로운 전망을 제시하고 글로벌 기술 개발에 새로운 자극을 불어넣습니다.
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