ノンリソグラフィーソリューション、キヤノン、5nmチップ製造装置を販売開始

本サイトの10月14日のニュースによると、キヤノンは最近プレスリリースを発表し、複雑なフォトリソグラフィー技術とは異なるソリューションで5nmのチップを製造できると述べ、チップ製造装置FPA-1200NZ2Cの販売を開始したとのこと。

# キヤノンは、生産設備の動作が業界リーダーである ASML とは異なると述べました。フォトリソグラフィーよりも印刷法に似ています。集積回路の微細構造をシリコンウェーハに転写するのに画像投影の原理は使用しません。

この装置セットは最小限の用途に適用できます。 は 14 平方ミリメートルのシリコンウェーハから、5nm プロセスと同等のチップを生産できます。

キヤノンは、このシステムの改善と開発を継続すると述べており、 は 2nm チップの生産に使用されることが期待されています将来。

このサイトからの注: ナノプリント リソグラフィーは一般に光リソグラフィーの低コスト代替手段と考えられており、SK Hynix や Kioxia などのメモリ チップ メーカーは過去にナノプリント リソグラフィーの使用を試みてきました。キオクシアは以前にもテストを実施していたが、潜在顧客から製品の不良率が高いとの苦情があり、最終的に断念した。

広告文: 記事に含まれる外部ジャンプ リンク (ハイパーリンク、QR コード、パスワードなどを含むがこれらに限定されない) が使用されています。 for より多くの情報を伝え、選択時間を節約します。結果は参考用です。このサイトのすべての記事にはこの声明が含まれています。

以上がノンリソグラフィーソリューション、キヤノン、5nmチップ製造装置を販売開始の詳細内容です。詳細については、PHP 中国語 Web サイトの他の関連記事を参照してください。