新しいテクノロジーが登場しています! SKハイニックス、半導体製造のボトルネックを打破するためにナノインプリント技術を選択
5月17日のニュースによると、韓国の半導体メーカーSKハイニックスは、日本の光学機器サプライヤーであるキヤノンのナノインプリント技術(NIL)を利用して、2025年までに3D製品の量産を達成する計画だという。 NANDチップ。
ナノインプリント技術は、高解像度、低コスト、高生産性などの利点を備えた最先端のマイクロ・ナノ加工技術であり、将来的には従来のフォトリソグラフィー技術に代わって主流となることが期待されていると考えられています。マイクロエレクトロニクスと材料のプレーヤーであり、この分野の重要な処理手段です。
ITBEAR技術情報は、SKハイニックスが最近キヤノンのナノインプリント技術装置を導入し、試験段階に入っていることを知った。現在のテスト結果は、このテクノロジーが良好に機能することを示しています。
従来のフォトリソグラフィー技術と比較して、ナノインプリント技術は複雑な光学システムや高価な光源を必要としないため、製造コストを大幅に削減でき、半導体メーカーにとって重要なブレークスルーとなります。
SKハイニックスが最近発表した2023会計年度第1四半期の財務報告書によると、第1四半期の同社の収益は5兆881億ウォンで、前四半期比34%減、前年同期比58%減となった。 -年中。 SKハイニックスが前年同期比および前四半期比で減少したのはこれで3四半期連続となる。同社は今年に入って2四半期連続で純損失を計上し、損失総額は2兆5855億ウォンとなった。
SKハイニックスの推計によると、同社の売上高は徐々に増加しており、第1四半期を底に今年第2四半期には売上が回復すると予想されている。ナノインプリント技術の設備を導入する計画は、生産効率の向上とコスト削減を目的としており、これも一貫している。
ナノインプリント技術の応用は、半導体産業におけるSKハイニックスの競争力を強化し、新たな発展の機会をもたらすでしょう。この技術進歩はマイクロエレクトロニクス業界全体にとって非常に重要であり、業界の革新と発展を促進すると期待されています。
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