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リソグラフィー装置を発明したのは誰ですか?

青灯夜游
青灯夜游オリジナル
2022-10-09 14:04:0873221ブラウズ

フォトリソグラフィー マシンは、1822 年にフランス人ニセフォール ニエプスによって発明されました。最初に、ニセフォール ニエプスは、油紙に彫刻できるマークを発見しました。それがガラス板に現れたとき、 、一定期間露光した後、光を通す部分は非常に硬くなりますが、不透明な部分はロジンや植物油で洗い流すことができます。

リソグラフィー装置を発明したのは誰ですか?

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リソグラフィー装置 (リソグラフィー) は、マスクアライメント露光機、露光システム、リソグラフィーシステムなどとも呼ばれ、チップを製造するための中心的な装置です。写真印刷と同様の技術を利用し、マスク上の微細なパターンを露光によりシリコンウエハー上に焼き付けます。

リソグラフィー装置を発明したのは誰ですか

1822 年にフランス人のニセフォール ニエプスがリソグラフィー装置を発明しました。油紙に彫刻できる印影です ガラスに写した場合、長時間露光すると光を透過する部分は非常に硬くなりますが、不透明な部分にも使用できます 洗浄用ロジン、植物油それをオフにします。

フォトリソグラフィー装置は以前に発明されましたが、発明後はさまざまな産業で使用されませんでした。この技術がプリント基板に適用されたのは第二次世界大戦になってからです。使用される材料も、従来のものとは大きく異なります。プラスチック基板上に銅回路を使用することで回路基板が普及し、短期間で回路基板は多くの電子機器分野で最も重要な材料の 1 つになりました。

今日、フォトリソグラフィー装置は半導体製造および製造の主要な生産装置となっており、半導体市場全体の技術レベルの象徴でもあります。

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露光機の製造にはどのような技術が必要ですか?

露光機の製造システムは非常に複雑です。重要なのは精密部品と組立技術の2点です。

1. 精密部品

フォトリソグラフィー装置の製造には、数万点の精密部品が必要です。一般に、リソグラフィー装置の製造には約 80,000 個の精密部品が必要ですが、世界最先端の極端紫外線リソグラフィー装置では現在 100,000 個以上の製造部品が必要です。

フォトリソグラフィー機械の完全なセットには、主に露光システム、自動位置合わせシステム、完全な機械ソフトウェア システムなどを含む複数のコンポーネント システムが含まれています。このうち、露光システムには照明システムと投影対物レンズが含まれます。

光学技術を構成する中核となる精密部品の中でも、中核中の核といえるのが光学レンズ、光学光源、デュアルワークベンチです。

高い開口数を備えた光学レンズは、リソグラフィー装置の解像度としきい値誤差能力を決定します。解像度と位置合わせエラー機能は、リソグラフィー マシンにとって非常に重要です。世界最先端のEUV極端紫外露光装置で使用できる唯一のレンズはツァイス社製のレンズです。

リソグラフィー装置の光学光源に含まれる光源の波長は、リソグラフィー装置の工業的能力を決定する重要な部分です。リソグラフィー装置に必要な光源は、小型、高出力、安定性の特性を備えていなければならないという事実に特別な注意を払う必要があります。

例えば、極端紫外EUVリソグラフィー装置で使用される光源の波長はわずか13.5ナノメートルの極端紫外光であり、使用される光学系は非常に複雑です。

リソグラフィー装置に必要なワークベンチシステムは、リソグラフィー装置の稼働中の精度と生産性に影響を与える可能性があり、関連する総合的な技術的難易度は非常に高くなります。この種のワークベンチはシリコンウェーハを運ぶため、リソグラフィー装置の動作中にウェーハのロードおよびアンロード、アライメント、円表面測定、露光などの一連の超精密動作システムを完了できます。

2. 組立技術

フォトリソグラフィー装置は精密な部品を必要とするだけでなく、その部品の組立技術も重要です。

すべての部品の準備が整うと、その後の組み立てプロセスがフォトリソグラフィー装置の動作パフォーマンスに直接影響します。現在、リソグラフィー装置の主要メーカーであるオランダの ASML (中国語訳: ASML) の生産プロセスは、本質的には部品組立会社に似ています。なぜなら、ASML がリソグラフィー装置を製造するために必要なコンポーネントのほぼ 90% が、ASML から調達されているからです。世界中に 5,000 を超えるサプライヤーがいます。

言い換えれば、ASML が露光機製造技術でニコンやキヤノンなど他の露光機製造ライバルを破り、世界の露光機製造・販売でトップの地位を占めることができた理由重要な理由は、強力な組み立て技術です。

フォトリソグラフィー装置の組み立てに強い企業は、さまざまな精密部品の組み立て方法を明確に理解し、熟練した操作とシステムの知識を活用して、さまざまな組み立て知的財産権を保有する必要があります。フォトリソグラフィー装置を迅速かつ正確に製造します。

私の国は、約 20 年にわたる重要な技術的進歩を経て、フォトリソグラフィー装置の技術において大きな進歩を遂げてきました。

露光機のデュアルワークベンチに関しては、中国華卓京科と清華チームが共同開発したデュアルワークベンチがASMLの技術独占を打破し、露光機の同期光源装置と光学レンズ技術に関しては、ハルビン工業大学などの全国的に有名な科学研究機関による集中的な研究により急速な発展を遂げています。

関連知識の詳細については、FAQ 列をご覧ください。

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