LTPS は低温ポリシリコン スクリーン、LCD は液晶ディスプレイ スクリーン、LTPs はポリシリコン技術の一分野です。各独立したピクセルはアクティブに制御できます。主に蛍光管、導光板で構成されています。 、偏光板、フィルター板、ガラスなどで構成されており、基板、支持フィルム、液晶材料などで構成されていますが、LCDは電界を介して液晶分子によるバックライトの調整を制御することで表示を実現しており、主にLCDで構成されています。パネル、バックライトモジュール、回路基板。
このチュートリアルの動作環境: Windows 10 システム、DELL G3 コンピューター。
ltps
低温ポリシリコンの正式名称は「低温ポリシリコン」です。 -シリコン(LTPS)、多結晶シリコンはp-Siとも呼ばれる、以下同様)」とは、多結晶シリコン技術の一分野です。 LCD ディスプレイの場合、ポリシリコン液晶材料の使用には、薄膜回路をより薄く、より小さくすることができ、消費電力が低いなど、多くの利点があります。
ポリシリコン技術開発の初期には、ガラス基板をアモルファスシリコン構造(a-Si)からポリシリコン構造に変換するために、レーザーアニール(レーザー)という高温酸化プロセスが必要でした。このとき、ガラス基板の温度は1000℃を超えます。
ご存知のとおり、この高温では通常のガラスは軟化したり溶けたりして使用できませんが、このような高温処理に耐えられるのは石英ガラスだけです。石英ガラスは高価なだけでなく、サイズが小さくてディスプレイパネルとして使用できないため、メーカーは必然的に安価なアモルファスシリコン(a-Si)材料を選択し、これが現在のものです。
しかし、業界は努力を諦めておらず、低温ポリシリコン技術の開発はコンセンサスとなり、長年にわたる努力の末、ようやく低温ポリシリコンが徐々に現実のものとなりました。低温ポリシリコンは、従来の高温ポリシリコンと比較して、レーザー照射工程も必要ですが、熱源としてエキシマレーザーを使用し、レーザーが伝送系を通過した後、均一なエネルギー分布のレーザー光を生成・照射します。ガラス基板上では、アモルファスシリコン構造を有するガラス基板がエキシマレーザーのエネルギーを吸収すると、多結晶シリコン構造に変化する。全工程が500~600℃以下で完了するため、通常のガラス基板でも耐えられるため製造コストが大幅に削減され、液晶ディスプレイ分野へのポリシリコン技術の導入は十分可能です。製造コストの削減に加えて、低温ポリシリコン技術の利点は次の側面にも反映されています。
LCD
LCD (Liquid Crystal Displayの略) 液晶ディスプレイ。 LCDの構造は、平行な2枚のガラス基板の間に液晶セルを配置し、下基板ガラスにTFT(薄膜トランジスタ)、上基板ガラスにカラーフィルタを配置し、信号や電圧を変化させます。 TFT 上の回転方向は液晶分子の動きを制御するために使用され、回転方向は各画素の偏光を放出して表示目的を達成するかどうかを制御します。液晶ディスプレイはブラウン管に代わって主流となり、価格も大幅に下がり、完全に普及しました。
CINNO Research のデータによると、2020 年は LCD スクリーン指紋認識携帯電話の量産と発売の最初の年になると予想されています。
違い
1. 発光原理:LTPSは独立した各画素をアクティブに制御可能 LCDは液晶分子のバックライトを制御表示を実現するためのソース調整。
2. 構成: LTPS スクリーンは主に蛍光管、導光板、偏光板、フィルター板、ガラス基板、支持フィルム、液晶材料などで構成されています。 LCD 画面は主に LCD パネル、バックライト モジュール、回路基板で構成されています。
関連知識の詳細については、FAQ 列をご覧ください。
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