EUVとDUVの違いは何ですか?

euv と duv の違い: 1. Duv は基本的に 25nm までしか達成できませんが、euv は 10nm 以下のウェーハの製造要件を満たすことができます; 2. Duv は主に光の屈折原理を利用し、一方、euv は屈折を利用します光の原理、反射原理、内部は真空中で動作する必要があります。

#この記事の動作環境: Windows 7 システム、Dell G3 コンピューター。

euv と duv の違い:

1. プロセス範囲の違い

duv: 基本的に 25nm しか達成できません。 Intelはデュアルワークベンチモデルで10nmを達成したが、10nm未満には到達できなかった。

euv: 10nm 未満のウェーハ製造要件を満たすことができ、引き続き 5nm および 3nm まで拡張できます。

2. 異なる発光原理

duv: 光源はエキシマ レーザーであり、光源の波長は 193 ナノメートルに達します。

euv: レーザーはプラズマを励起して EUV 光子を放出し、光源の波長は 13.5 ナノメートルです。

3. さまざまな光路システム

duv: 主に光の屈折原理を利用します。このうち液浸露光装置は投影レンズとウエハの間に純水を満たし、193nmの光波を134nmに相当させます。

euv: 光の反射原理を利用し、内部を真空中で動作させる必要があります。

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