Samsung est confronté à de nouveaux défis dans la fonderie haut de gamme : suppression des achats de machines de lithographie EUV High-NA et suspension de la construction conjointe d'un centre de recherche avec ASML

Selon notre site Web du 20 août, les médias coréens businesskorea ont publié un article de blog aujourd'hui (20 août), révélant que Samsung envisage de réduire l'ampleur des achats d'EUV à haute NA et que le projet de centre de recherche commun avec ASML a également rencontré de nombreux obstacles.

Contenu modifié :

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Source : ASML Samsung a signé un protocole d'accord (MOU) avec ASML en décembre 2023 pour établir un centre de recherche commun EUV dans la région de la capitale sud-coréenne.
Ce site citait des sources rapportant que Samsung avait initialement prévu d'acheter des Twinscan EXE:5200, EXE:5400 et EXE:5600 trois suivis Twinscan EXE:5000 High-NA lithography machines au cours des 10 prochaines années, et le dernier rapport On dit que Samsung a informé ASML qu'il réduirait non seulement la quantité d'achat de Twinscan EXE:5000 series EUV lithography machines, mais qu'il n'achèterait également que EXE:5200 à l'avenir.
Les rapports indiquent que la décision a été prise après que le vice-président Jun Young-hyun a été nommé nouveau chef de la division DS (Device Solutions) et a réexaminé les projets et investissements en cours.
Un initié de l'industrie familier avec la situation a déclaré :
Le processus d'achat d'un terrain pour construire un centre de recherche à Hwaseong, dans la province de Gyeonggi, ainsi que le processus de conception et d'approbation étaient tous en cours. Cependant, Samsung a décidé de réduire l'introduction de. équipement, le processus associé s’est complètement arrêté.
La question de savoir si le centre commun de recherche sera établi ailleurs, ou si l'établissement lui-même sera annulé, sera décidé lors des discussions futures.

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