SK Hynix prévoit d'introduire pour la première fois une machine de lithographie ASML High NA EUV en 2026

Nouvelles de ce site le 19 août. Selon le média coréen ZDNet Korea, les techniciens en matériaux SK Hynix EUV ont déclaré aux médias lors d'une réunion technique le 12e heure locale de ce mois que la société prévoyait d'introduire l'EUV High NA d'ASML pour la première fois. temps en 2026. Machine de lithographie. Un ingénieur de SK Hynix a déclaré que la société avait récemment créé une équipe de R&D High NA EUV et travaillait à l'application de la technologie de lithographie High NA EUV à la production de mémoire DRAM de pointe.

Selon les rapports publiés sur ce site, parmi plusieurs grandes sociétés de processus logiques avancés et de semi-conducteurs de stockage,

1. Intel :

   • a pris les devants en acquérant la première machine commerciale de lithographie EUV à haute NA au monde
   • Two High NA les machines sont déjà en route vers l'usine de R&D de l'Oregon

2. TSMC:

   • La première machine de lithographie EUV High NA devrait être livrée en 2024

3. Samsung Electronics:

   • La première High NA La machine de lithographie EUV devrait être livrée du quatrième trimestre 2024 au premier trimestre 2025

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