Maison >Périphériques technologiques >Industrie informatique >Il est révélé que Samsung commencera à installer sa première machine de lithographie ASML High-NA EUV d'ici fin 2024 au plus tôt

Il est révélé que Samsung commencera à installer sa première machine de lithographie ASML High-NA EUV d'ici fin 2024 au plus tôt

王林
王林original
2024-08-16 11:11:33975parcourir

Nouvelles de ce site le 16 août, le Seoul Economic Daily a rapporté hier (15 août) que Samsung installerait la première machine de lithographie EUV High-NA d'ASML entre le quatrième trimestre 2024 et le premier trimestre 2025. , et devrait être mis en service à la mi-2025.

三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 ASML High-NA EUV 光刻机

Il est rapporté que Samsung installera la première machine de lithographie ASML Twinscan EXE:5000 High-NA sur son campus de Hwaseong, principalement à des fins de recherche et développement afin de développer une technologie de fabrication de nouvelle génération pour la logique et la DRAM.

Samsung prévoit de développer un écosystème solide autour de la technologie EUV High-NA : en plus d'acquérir des équipements de lithographie EUV High-NA, Samsung collabore également avec la société japonaise Lasertec Corporation pour développer des équipements d'inspection spécifiquement pour les photomasques High-NA.

Ce site a cité DigiTimes rapportant que Samsung a acheté l'outil d'inspection de masques EUV High-NA de Lasertec, Actis A300.

三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 ASML High-NA EUV 光刻机

1. Le Dr Min Cheol-ki du Samsung Electronics Semiconductor Research Institute a déclaré lors du Symposium de lithographie et de modélisation de 2024 : « Par rapport aux [outils spécifiques à l'EUV] traditionnels, l'utilisation d'[outils dédiés à l'EUV à haute NA] permet d'inspecter les masques semi-conducteurs. augmenter le contraste de plus de 30 %.
  1. Le rapport indique également que Samsung travaille également avec le fabricant de résine photosensible JSR et le fabricant de machines de gravure Tokyo Electronics pour se préparer à mettre les outils Gaona EUV dans des applications commerciales d'ici 2027.
  2. Samsung travaille également avec Synopsys pour passer des conceptions de circuits traditionnelles aux motifs incurvés sur les photomasques. Ce changement devrait améliorer la précision avec laquelle les circuits sont imprimés sur les tranches, ce qui est essentiel pour améliorer davantage la technologie des processus.

Ce qui précède est le contenu détaillé de. pour plus d'informations, suivez d'autres articles connexes sur le site Web de PHP en chinois!

Déclaration:
Le contenu de cet article est volontairement contribué par les internautes et les droits d'auteur appartiennent à l'auteur original. Ce site n'assume aucune responsabilité légale correspondante. Si vous trouvez un contenu suspecté de plagiat ou de contrefaçon, veuillez contacter admin@php.cn