Samsung beginnt mit der Massenproduktion seiner ersten Charge von V-NAND-Flash-Speichern der neunten Generation

Neuigkeiten von dieser Website am 23. April: Samsung Semiconductor gab heute bekannt, dass die Massenproduktion seines V-NAND 1-Tb-TLC-Produkts der neunten Generation begonnen hat, , das eine Bitdichte aufweist, die etwa 50 % höher ist als die des Samsung-Produkts der vorherigen Generation , über den Kanal Die Lochätztechnologie (Kanallochätzen) verbessert die Produktionseffizienz.

Mit der derzeit kleinsten Zellengröße und der dünnsten Stapeldicke von Samsung ist die Bitdichte von Samsungs V-NAND der neunten Generation etwa 50 % höher als die des V-NAND der achten Generation. Die Anwendung neuer technischer Funktionen wie die Vermeidung von Zellinterferenzen und die Verlängerung der Zelllebensdauer verbessern die Produktqualität und -zuverlässigkeit, während die Eliminierung virtueller Kanallöcher die planare Fläche der Speicherzelle erheblich reduziert. Darüber hinaus erzeugt die „Channel Hole Etching“-Technologie von Samsung elektronische Pfade durch Stapeln von Formschichten und gleichzeitiges Bohren von Löchern in einer Doppelschichtstruktur, um die höchste Anzahl von Einheitsschichten von Samsung zu erreichen und so die Fertigungsproduktivität zu maximieren. Mit zunehmender Anzahl der Zellschichten wird die Fähigkeit, mehr Zellen zu durchdringen, entscheidend, was Anforderungen an komplexere Ätztechniken stellt.

Der V-NAND der neunten Generation ist mit der NAND-Flash-Schnittstelle „Toggle 5.1“ der nächsten Generation ausgestattet

, die die Dateneingabe-/-ausgabegeschwindigkeit um 33 % auf bis zu 3,2 Gigabit pro Sekunde (Gbit/s) erhöhen kann. Neben dieser neuen Schnittstelle plant Samsung auch, seine Position im Markt für Hochleistungs-SSDs durch die Ausweitung der Unterstützung für PCIe 5.0 zu festigen. Basierend auf den Fortschritten von Samsung beim stromsparenden Design

reduziert das V-NAND der neunten Generation im Vergleich zur vorherigen Generation auch den Stromverbrauch um 10 %

. Samsung hat diesen Monat mit der Massenproduktion seiner V-NAND-1-Tb-TLC-Produkte der neunten Generation begonnen und wird in der zweiten Jahreshälfte mit der Massenproduktion seines V-NAND der neunten Generation mit Quad-Layer-Zellen (QLC) der vierten Generation beginnen dieses Jahres.

Die koreanischen Medien Hankyung sagten, dass die Anzahl der Stapelschichten des V-NAND-Flash-Speichers der 9. Generation von Samsung 290 beträgt. In früheren Berichten auf dieser Website wurde jedoch erwähnt, dass Samsung auf einer akademischen Konferenz einen 280-schichtigen gestapelten QLC-Flash-Speicher vorgeführt hat. TechInsights, ein Beobachter der Halbleiterindustrie, sagte, dass der V-NAND-Flash-Speicher der 10. Generation von Samsung voraussichtlich 430 Schichten erreichen wird, was die Stapelvorteile weiter verbessert.

Das obige ist der detaillierte Inhalt vonSamsung beginnt mit der Massenproduktion seiner ersten Charge von V-NAND-Flash-Speichern der neunten Generation. Für weitere Informationen folgen Sie bitte anderen verwandten Artikeln auf der PHP chinesischen Website!