Heim > Artikel > Technologie-Peripheriegeräte > Samsung plant, 10 Billionen Won in Halbleiterausrüstung zu investieren und ASML EUV-Lithographiemaschinen in großen Mengen zu kaufen
Samsung plant, den Import weiterer ASML-Lithographiegeräte für extremes Ultraviolett (EUV) zu erhöhen, heißt es in einem Bericht der südkoreanischen Zeitung Electronic News Today
Obwohl die Vertraulichkeitsklausel im Vertrag keine spezifischen Details offenlegte, heißt es Nachrichten vom Wertpapiermarkt: Diese Vereinbarung wird es ASML ermöglichen, innerhalb von fünf Jahren insgesamt 50 Ausrüstungssätze bereitzustellen. Der Stückpreis jeder Ausrüstung beträgt ungefähr 200 Milliarden Won (ungefähr 1,102 Milliarden Yuan), und der Gesamtwert kann 10 Billionen erreichen Won (ca. 55,1 Milliarden Yuan)
Es ist unklar, ob es sich bei den Produkten in seinem Vertrag um bestehende EUV-Lithographiegeräte oder um „High NA EUV“-Lithographiegeräte der nächsten Generation handelt. Das größte Problem aktueller EUV-Lithographiegeräte ist jedoch die begrenzte Leistung. Laut offiziellen Angaben ist es „komplexer als Satellitenkomponenten“ und kann nur in sehr begrenzten Mengen pro Jahr hergestellt werden. Letztes Jahr sollen es 40 Einheiten gewesen sein, und ASML schätzt, dass es dieses Jahr 60 Einheiten sein werden. Derzeit gibt es fünf Hersteller, die EUV-Lithographiegeräte benötigen und kaufen können: Samsung Electronics, TSMC, Intel, SK Hynix und Micron. Unter ihnen entfallen etwa 70 % des Angebots auf TSMC, während vier Unternehmen um die restlichen 30 % konkurrieren.
Samsung Electronics hat im Juni letzten Jahres die weltweit erste 3-nm-Foundry-Technologie mit All-Gate-Technologie (GAA) auf den Markt gebracht. Daher hat das Unternehmen hart daran gearbeitet, die Beschaffung weiterer EUV-Lithographiegeräte sicherzustellen, mit dem Ziel, in der ersten Jahreshälfte 3 nm einzuführen nächstes Jahr Der Prozess der zweiten Generation wird 2025 in den 2-nm-Prozess und 2027 in den 1,4-nm-Prozess eintreten.
Deshalb reiste Vorsitzender Lee Jae-yong im vergangenen Juni zum ASML-Hauptquartier, um mit CEO Peter Bennink EUV-Beschaffungsfragen zu besprechen. Während seines Besuchs in Südkorea im vergangenen November führte er weitere Gespräche mit Bennink. Wenn man bedenkt, dass der Lieferzyklus von EUV mindestens ein Jahr dauert, scheinen diese Treffen praktische Ergebnisse erzielt zu haben
Tatsächlich stehen Analysten im Halbleiterbereich auch dem Plan von Samsung Electronics, zusätzliche EUV-Lithographiegeräte zu kaufen, positiv gegenüber.
Lee Jong-hwan, Professor für Systemhalbleitertechnik an der Sangmyung-Universität, sagte: „Samsung hat Dutzende EUV-Lithographiegeräte eingeführt. Jedes Gerät soll etwa 200 Milliarden Won kosten, was zeigt, dass das Unternehmen beabsichtigt, die Massenproduktion auszuweiten.“ von 3-nm-Chips und plant, in Zukunft eine 2-nm-Produktion zu erreichen.“ Der Markt schätzt, dass Samsung derzeit über etwa 40 EUV-Geräte verfügt. Wenn diese 50 Geräte wie geplant geliefert werden können, wird Samsung bis 2028 über etwa 100 Geräte verfügen können 10 % der Maschinen werden für die Prozess-Forschung und -Entwicklung und -Tests genutzt, und wenn wir 100 Maschinen haben, können wir sie rund um die Uhr für Forschung und Entwicklung nutzen dass genügend Prozesskapazität vorhanden ist, um die Ausrüstung richtig zu nutzen.“ „Wenn sich die Technologie stabilisiert, werden wir in der Lage sein, die Produktion zu steigern und in der Gießereifertigung Fortschritte zu machen“, sagte Kim Yang-pang, ein Experte und Forscher am Industrial Research Institute.
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