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Baubeginn verzögert sich auf Mai 2025, Intels Fab29-Fabrik in Deutschland verzögert sich aufgrund der EU-Fördergenehmigung erneut

王林
王林Original
2024-06-11 12:00:57407Durchsuche

Diese Seite berichtete am 30. Mai, dass die deutschen Medien Volksstimme berichteten, dass Intels 1-nm-Wafer-Fabrik Fab 29 in Deutschland aufgrund der Beseitigung von Schwarzerde und der Genehmigung von EU-Subventionen verzögert wurde. Der neue Starttermin wurde auf Mai 2025 verschoben.

Intel gab an, dass sich der natürliche Starttermin verzögert hat, wenn der Bau und die Werkzeuginstallation beschleunigt werden, die Fabrik möglicherweise noch zwischen Ende 2027 und Anfang 2028 in Produktion geht.

Der Projektstart war für das erste Halbjahr 2023 geplant, wurde jedoch aufgrund von Förderverzögerungen auf den Sommer 2024 verschoben. Außerdem hat die EU-Wettbewerbsbehörde noch keine Fördermittel in Höhe von 9,9 Milliarden Euro für das 30-Milliarden-Euro-Projekt genehmigt hat zu einer verzögerten Weiterentwicklung des Projekts geführt.

Intel passt seine Pläne entsprechend an und konzentriert sich auf den Infrastrukturbau und den Landerwerb, um sich auf verzögerte Bauarbeiten vorzubereiten.

Diese Website berichtete am 23. März dieses Jahres, dass Archäologen im Intel-Entwicklungsgebiet von Magdeburg, Deutschland, zwei neolithische Gräber entdeckt haben, was zu Verzögerungen beim Bauprojekt führen könnte.

开工推迟至 2025 年 5 月,英特尔德国 Fab29 工厂因欧盟补贴审批再次延期

Laut dem zuvor angekündigten Bauplan hat Intel in der ersten Phase (der blaue Teil im Bild) ein beträchtliches Grundstück in Magdeburg erworben unterstützende Einrichtungen nehmen nur etwa ein Viertel der Gesamtfläche ein. Dies bedeutet, dass Intel in Zukunft voraussichtlich den Produktionsumfang in Deutschland weiter ausbauen wird.

开工推迟至 2025 年 5 月,英特尔德国 Fab29 工厂因欧盟补贴审批再次延期

Die beiden Fabrikgebäude von Fab29.1% und Fab29.2 sind drei Stockwerke hoch, wobei jede Stockwerkshöhe zwischen 5,7 und 6,5 Metern beträgt. Zusammen mit der Dachkonstruktion für Klimatisierung und Heizung beträgt die Gesamthöhe Das Gebäude erreicht eine Höhe von 36,7 Metern. Im zweiten Obergeschoss wird sich die High-NA EUV-Lithografiemaschine befinden, das Ober- und Untergeschoss dienen der Materiallogistik.

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